Китайские ученые совершили прорыв в области высокоточных испытаний магнитных чипов

Ученые из Бэйханского университета в Пекине разработали высокоточное испытательное оборудование, которое может быть применено для тестирования тонких магнитных пленок при производстве магнитных чипов.

С помощью магнитного зонда исследователи успешно записали несколько китайских иероглифов на магнитных пленках толщиной всего в пять атомных слоев, что эквивалентно одной стотысячной толщины листа обычной типографской бумаги.

При производстве магнитных чипов наноразмерные тонкие магнитные пленки должны быть равномерно распределены на пластинах — подложках, используемых для изготовления кремниевых полупроводниковых интегральных схем.

«Данный процесс подобен равномерному распределению пшена в пять слоев на площади свыше 400 кв.м. Требуется проведение точных испытаний на ровность тонкой пленки», — заявил преподаватель Школы интегральных схем и инженерии Бэйханского университета Чжан Сюэин.

По его словам, исследовательская группа использует магнитооптический датчик на эффекте Керра собственной разработки, чтобы получить изображения иероглифов, записанных на тонких пленках. Последовательный цветовой контраст слов и четкий след записи свидетельствуют о плоскостности тонкой пленки. После испытания пленки можно использовать для изготовления магнитных чипов.

«По сравнению с аналогичным магнитооптическим испытательным оборудованием, разработанным в других странах, новое устройство продемонстрировало прорыв и инновации в области точности и скорости», — отметил декан факультета технологий и оборудования Школы интегральных схем и инженерии Бэйханского университета Ван Синьхэ.

Магнитные чипы могут использоваться в качестве высоконадежных модульных хранилищ информации и чувствительных модулей считывания сигналов с магнитных носителей, применяемые в системах управления самолетами и спутниками, или на полях, в том числе для пользования электронным компасом на мобильных телефонах и для беспилотного управления.

По данным исследовательской группы, новое испытательное оборудование будет запущено в коммерческое использование примерно в октябре 2021 года.

Пекин, /Синьхуа/

03.07.2021

Источник:  http://russian.news.cn/2021-07/03/c_1310040333.htm

Share on Google+Share on FacebookShare on VKTweet about this on Twitter